众所周知，光刻机在芯片制造过程中起着至关重要的作用。光刻机是一种用于制造集成电路的关键设备，能够将芯片图案投影到硅片上，实现微小结构的制造。在所有半导体设备中，光刻机的销售额仅次于蚀刻机，占据约20%的市场份额。而在众多光刻机产品中，可见光刻机被认为是价值最高的一种。

据机构统计数据显示，在2022年全球光刻机市场，ASML主导了整个行业，拥有82.4%的市场份额。佳能位居第二，占据10.2%的份额。尼康紧随其后，占据7.65%的份额。可以看出，这三家厂商合计占据了接近100%的市场份额，独占鳌头。而相比之下，国产光刻机可能仅拥有微乎其微的0.01%的份额，几乎可以忽略不计。

不仅如此，如果观察这三个厂商的光刻机出货数量，可以发现ASML拥有绝对的领先优势，共计出货345台。佳能紧随其后，出货量达到176台。尼康相对数量较少，仅出货30台。而对于最先进的EUV光刻机，目前全球只有ASML有能力进行生产和销售，尼康和佳能都尚未涉足。这也导致了尽管ASML出货数量相对于佳能来说仅为两倍，但其市场份额却是佳能的8倍之多。高端的浸润式光刻机方面，尼康与佳能都各自卖出了4台。尽管尼康的出货量较低（仅30台），但由于其产品更先进、价格更高，使得其销售额与佳能的176台相当。

从目前在售的光刻机产品中可以看出，ArF光刻机最高支持65纳米制程，而浸润式光刻机可以实现7纳米制程。而EUV光刻机则可以支持更小尺寸的芯片制造，可达5纳米以下。这也间接反映了ASML、尼康和佳能光刻机的技术水平和产品竞争力。

然而，回过头来看国产光刻机在市场份额和销售量上的表现及其现状，可以发现国产光刻机面临着巨大的挑战。目前国产光刻机仍停留在ArF阶段，市场份额非常有限甚至接近于零。与ASML、尼康和佳能等巨头相比，国产光刻机在技术和先进设备方面还存在较大差距。在国产芯片发展中，光刻机已经成为最大的短板之一，迫切需要加强研发和技术进步。

综上所述，ASML作为全球光刻机市场的霸主，占据着绝对的市场份额和销售优势。而佳能和尼康紧随其后，虽然份额较少，但仍然是行业的重要参与者。国产光刻机面临着巨大的挑战，需要通过研发创新和技术突破来提高市场竞争力。光刻机市场的格局将随着技术的发展和竞争的加剧而发生变化，值得我们继续关注和思考。